微波消解-電感耦合等離子體發(fā)射光譜法測定鉭合金中的硅
發(fā)布時(shí)間:
2025-07-01
在難熔金屬材料中,金屬鉭(Ta)及鉭合金具有較高的熔點(diǎn)、極低的韌-脆轉(zhuǎn)變溫度、良好的塑性加工成形能力,優(yōu)良的耐腐蝕性能、耐磨損性能、抗蠕變性能以及高溫力學(xué)性能[1~3],被廣泛應(yīng)用于航空航天、核工業(yè)、冶金化工及國防等諸多高新技術(shù)領(lǐng)域中[4,5]。這些新興技術(shù)領(lǐng)域?qū)饘巽g及鉭合金的各項(xiàng)物理化學(xué)性質(zhì)要求非常嚴(yán)苛,而合金中各種雜質(zhì)的含量又很大程度上影響著金屬鉭及鉭合金的物理化學(xué)性質(zhì)。因此,尋找一種準(zhǔn)確可靠的分析測試手段對金屬鉭及鉭合金中雜質(zhì)元素進(jìn)行分析是非常重要的。硅是鉭合金中的一種重要雜質(zhì),其含量的高低直接影響到鉭合金的性能。因此,對鉭合金中硅的精確分析至關(guān)重要。傳統(tǒng)的硅分析方法主要包括化學(xué)分析法和儀器分析法。化學(xué)分析法主要包括氟硅酸滴定法和鉬藍(lán)分光光度法以及重量法,儀器分析法主要包括電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法(ICP-AES)和電感耦合等離子體質(zhì)譜法(ICP-MS)。由于鉭合金中硅含量較低,相比之下,ICP-AES具有高靈敏度、高精度、寬線性范圍和抗干擾能力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),已成為鉭合金中硅分析的主流方法。
由于鉭合金材料本身的特質(zhì),需要使用氫氟酸溶解樣品,但是氫氟酸溶解樣品對于硅元素有著嚴(yán)格的溫度要求,溫度需要保持在60℃以下,否則會(huì)導(dǎo)致硅的損失,而溫度過低,鉭合金溶解時(shí)間過長,不能滿足實(shí)際分析需求。微波消解法作為一種簡單高效的溶樣方法,恰好滿足了這個(gè)分析要求。微波消解法通過在密閉消解罐中利用微波產(chǎn)生的熱能進(jìn)行強(qiáng)熱對流使樣品加速溶解,實(shí)驗(yàn)中僅需加入酸作為溶劑,不引入其他雜質(zhì)元素,溶樣完全、空白值低[12,13]。與傳統(tǒng)前處理手段相比,微波消解法具有省時(shí)省力、用酸量低、污染小且無揮發(fā)損失的優(yōu)點(diǎn)[14]。本工作通過微波消解法將鉭合金在硝酸和氫氟酸介質(zhì)中進(jìn)行密閉溶解,極大地提升了鉭合金的溶解效率,并通過電感耦合等離子原子發(fā)射光譜法進(jìn)行對硅進(jìn)行測定,實(shí)現(xiàn)了對鉭合金中硅元素的快速準(zhǔn)確分析。本文對鉭合金中硅的精確分析方法進(jìn)行了探討,為鉭合金的生產(chǎn)和應(yīng)用提供了科學(xué)依據(jù)。在今后的研究中,將繼續(xù)優(yōu)化實(shí)驗(yàn)方法,提高分析效率和準(zhǔn)確性,以滿足高新技術(shù)領(lǐng)域?qū)︺g合金性能的更高要求。同時(shí),也將關(guān)注其他雜質(zhì)元素的分析方法研究,為金屬鉭及鉭合金的廣泛應(yīng)用提供更多技術(shù)支持。
1實(shí)驗(yàn)部分
1.1主要儀器及工作條件
ICAP6300電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(美國賽默飛世爾有限公司),配備耐氫氟酸進(jìn)樣系統(tǒng),分辨率<0.006mm(200nm處)。工作條件:樣品清洗時(shí)間為30s,分析泵速為50r/min,功率為1150W,載氣流量為0.75L/min,輔助氣流量為0.5L/min。
艾柯超純水機(jī):超純水,10~16MΩ,25℃(成都市康寧科技發(fā)展有限公司)。
采用屹堯M6型微波消解儀在密閉條件下逐級(jí)升溫消解金屬鉭,微波消解程序見表1。

1.2 主要試劑
硝酸(ρ=1.42g/mL);氫氟酸(ρ=1.14g/mL)。氬氣(體積分?jǐn)?shù)不小于99.99%)。
硅標(biāo)準(zhǔn)溶液:GSBG62007-90(1401)1000μg/mL,10%HCl介質(zhì),由國家鋼鐵材料測試中心鋼鐵研究總院提供。實(shí)驗(yàn)用水均為超純水(10~16MΩ)。
1.3 實(shí)驗(yàn)方法
稱取0.5000g經(jīng)105℃烘干的樣品于微波消解內(nèi)罐中,分別加入3mL硝酸、4mL氫氟酸和4mL水;蓋上內(nèi)罐蓋子,扣上防爆膜,置入外罐中,擰緊后放入微波消解儀,根據(jù)表1加熱程序進(jìn)行微波消解。完成后取出,冷水浸泡2h以上,在通風(fēng)櫥中打開;將溶液移入100mL塑料容量瓶中,并用水清洗消解罐,定容,搖勻,以備使用。平行做兩份實(shí)驗(yàn),結(jié)果取平均值;隨同樣品做空白實(shí)驗(yàn)。
1.4 標(biāo)準(zhǔn)溶液系列的配制
稱取四份與試樣對等的金屬鉭,分別置于微波消解罐中,并分別取0.00mL,1.00mL,5.00mL,10.00mL濃度為100.0μg/mL的硅標(biāo)準(zhǔn)溶液于微波消解罐中,按1.3步驟處理,冷卻之后轉(zhuǎn)移定容,得到系列標(biāo)準(zhǔn)溶液。此標(biāo)準(zhǔn)溶液中含硅量依次為0μg/mL,1.00μg/mL,5.00μg/mL和10.00μg/mL。
2 結(jié)果與討論
2.1 微波消解程序的優(yōu)化
樣品的溶解效率與最高溫度以及保溫時(shí)間息息相關(guān)。一般來說,在微波消解程序中,最高消解溫度越高,保溫時(shí)間越長,消解效果也越好。本工作旨在加快鉭合金的溶解速度,期望在時(shí)間成本及金錢成本達(dá)到最佳,因此實(shí)驗(yàn)對微波消解程序中的最高溫度以及保溫時(shí)間進(jìn)行了優(yōu)化。實(shí)驗(yàn)以標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)TaNb3和實(shí)際樣品分別進(jìn)行,加入3mL硝酸和4mL氫氟酸進(jìn)行微波消解,實(shí)驗(yàn)結(jié)果如表2所示。首先固定保溫時(shí)間,改變最高溫度,由實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象可知,消解溫度不夠高必然會(huì)對鉭合金的溶解造成影響;同樣的,固定最高溫度,改變保溫時(shí)間進(jìn)行實(shí)驗(yàn),實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象同樣表明鉭合金的溶解對保溫時(shí)間有一定要求。綜合來看,實(shí)驗(yàn)選定消解最高溫度為200℃,保溫時(shí)間為30min。

2.2 氫氟酸用量的優(yōu)化
氫氟酸是常見的消解液成分之一,其能夠有效地破壞鉭的結(jié)構(gòu),使嵌入在其中的元素析出,因此在鉭合金的微波消解中必須用到氫氟酸。氫氟酸的用量對鉭合金的溶解效率有著至關(guān)重要的影響,因此實(shí)驗(yàn)優(yōu)化了氫氟酸的用量。實(shí)驗(yàn)固定硝酸用量為3mL,同時(shí)改變氫氟酸用量。不同條件下TaNb3樣品中Si的測定結(jié)果如表3所示。

實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象和表3的數(shù)據(jù)表明,在高溫高壓的條件下,氫氟酸用量不足會(huì)導(dǎo)致樣品無法完全溶解,即在加入2mL氫氟酸的情況下,Si的測定值明顯偏低;提升氫氟酸的用量能夠促進(jìn)樣品的溶解,當(dāng)用量為4~5mL時(shí),Si的測定結(jié)果趨于穩(wěn)定。因此實(shí)驗(yàn)選擇加入4mL氫氟酸進(jìn)行微波消解。
2.3 硝酸用量的優(yōu)化
硝酸具有強(qiáng)氧化性,是常見的消解液成分之一,可以有效地溶解大多數(shù)合金樣品,因此實(shí)驗(yàn)探究了硝酸用量對鉭合金消解效率的影響,同樣對標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)TaNb3進(jìn)行測試,固定氫氟酸用量為4mL,實(shí)驗(yàn)結(jié)果如表4所示。

實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象和表4的數(shù)據(jù)表明,硝酸的用量不足同樣會(huì)導(dǎo)致樣品無法完全溶解,即在加入1mL硝酸的情況下,Si的測定值明顯偏低;增加硝酸的用量能夠促進(jìn)樣品的溶解,當(dāng)用量為3~4mL時(shí),Si的測定結(jié)果趨于穩(wěn)定。因此實(shí)驗(yàn)確定消解液中硝酸的用量為3mL。
2.4 分析譜線的選擇與校準(zhǔn)曲線
考慮到大量鉭元素的存在可能會(huì)對硅的檢測造成干擾,因此,按照對待測元素干擾小或無干擾、背景低、靈敏度高的標(biāo)準(zhǔn)來選擇最佳分析譜線。實(shí)驗(yàn)選擇了硅的兩條分析線(251.612nm,21.412nm)進(jìn)行比較,最后選擇靈敏度更高,校準(zhǔn)曲線系數(shù)更好的251.612nm作為本次實(shí)驗(yàn)的分析線。在選定的儀器條件下檢測系列標(biāo)準(zhǔn)溶液中硅的發(fā)射光譜強(qiáng)度,以硅的質(zhì)量濃度(mg/L)為橫坐標(biāo),對應(yīng)的發(fā)射光譜強(qiáng)度為縱坐標(biāo)繪制校準(zhǔn)曲線。線性范圍,回歸方程以及相關(guān)系數(shù)如表5所示。對空白連續(xù)測定11次,以測定結(jié)果標(biāo)準(zhǔn)偏差的三倍計(jì)算得到硅的檢出限,10倍空白標(biāo)準(zhǔn)偏差計(jì)算得到硅的定量限,見表5。

2.5 準(zhǔn)確度及精密度
為驗(yàn)證本方法的準(zhǔn)確度及精密度,選取鉭合金標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)(TaNb3),按照實(shí)驗(yàn)方法進(jìn)行分析,結(jié)果如表6所示:分別進(jìn)行了三次實(shí)驗(yàn),硅的測定值與認(rèn)定值相吻合,測定結(jié)果的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差(RelativeStan-dardDeviation,RSD,n=3)在2.3%~3.5%之間,表明該方法準(zhǔn)確度較高,精密度良好。

2.6 實(shí)際樣品的分析
選取兩個(gè)鉭合金樣品,按照實(shí)驗(yàn)方法進(jìn)行分析,結(jié)果如表7所示:測定結(jié)果的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差在1.3%~3.3%之間,加標(biāo)回收率在93.3%~105%之間,表明該方法能夠準(zhǔn)確測定鉭合金樣品中的硅。

3 結(jié)論
本工作提出了微波消解-電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀測定鉭合金樣品中硅的分析方法。相較于傳統(tǒng)的水浴法,本方法極大地提升了樣品的溶解速度,提高了樣品的分析效率。實(shí)驗(yàn)對氫氟酸的用量和分析譜線的選擇進(jìn)行了優(yōu)化;在最優(yōu)化的實(shí)驗(yàn)條件下對標(biāo)準(zhǔn)樣品以及實(shí)際樣品進(jìn)行了檢測,結(jié)果表明該方法具有較好的準(zhǔn)確度和精密度,且分析快速,可以用于鉭合金樣品中硅的準(zhǔn)確測定。
參考文獻(xiàn):張浩等:微波消解-電感耦合等離子體發(fā)射光譜法測定鉭合金中的硅
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